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https://nccur.lib.nccu.edu.tw/handle/140.119/159258
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| Title: | 論FinFET元件專利寫作 ─ 以兩件美國專利判決為借鏡
Patent Drafting for FinFET Devices: Insights from Two U.S. Patent Law Cases |
| Authors: | 楊采陵
Yang, Tsai-Ling |
| Contributors: | 陳秉訓
Chen, Ping-Hsun
楊采陵
Yang, Tsai-Ling |
| Keywords: | 鰭式場效電晶體
專利侵權訴訟
請求項解釋
侵權認定
訴訟攻防
FinFET
Patent infringement litigation
Claim construction
Infringement determination
Litigation strategy |
| Date: | 2025 |
| Issue Date: | 2025-09-01 16:08:24 (UTC+8) |
| Abstract: | 本研究以FinFET元件專利為標的，分析聚美國專利訴訟KAIST v. Samsung案與In re Gatabi案兩起實務判決，探討法院對專利請求項解釋之實務見解。在侵權訴訟中，請求項解釋的結果往往成為影響法院判斷勝敗的重要關鍵，不論是權利人主張侵權成立，或被告挑戰專利有效性以及限縮權利範圍使被控侵權物不落入請求項中，皆深受請求項內容所影響。
因此本文透過整理KAIST v. Samsung案中法院對前言限制效力、技術用語定義及明確性爭議所作認定及見解依據，也分析In re Gatabi案中專利權人對前案是否揭露技術特徵所提出的抗辯內容，以提供新的撰寫專利思考角度。
本研究最後透過觀察及分析，從兩件專利訴訟中得到專利撰寫的啟發，除應避免冠詞誤用、技術用語使用不明確外，也可以多利用說明書描述以完善專利用語之明確性，以此提升專利權人於未來訴訟中之攻擊效益。
This study focuses on patents related to FinFET devices and analyzes two U.S. patent litigation cases—KAIST v. Samsung and In re Gatabi—to examine judicial practices in claim construction. In patent infringement litigation, the outcome of claim interpretation often plays a decisive role in the court’s determination of liability. Whether a patentee asserts infringement or a defendant challenges patent validity or seeks to narrow the claim scope to exclude the accused product, the interpretation of claim language is critical.
Accordingly, this study organizes and analyzes the court’s reasoning in KAIST v. Samsung concerning the limiting effect of preambles, the definition of technical terms, and issues of claim indefiniteness. It also examines the patentee’s arguments in In re Gatabi regarding whether the prior art disclosed the claimed technical features, thereby offering new perspectives for drafting patent claims.
Ultimately, by observing and analyzing these two cases, this study draws insights for effective patent drafting. It emphasizes the importance of avoiding the misuse of articles and vague technical terminology, and highlights the need to utilize the specification to clarify claim terms. These strategies aim to enhance the patentee’s offensive position in future litigation. |
| Reference: | 中文文獻(依作者姓氏筆畫數)
書籍
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翻譯書籍
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期刊論文
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網路資料
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英文文獻(依作者姓氏字母序)
書籍
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網路文獻
CompareWords，“What's the difference between lithography and photolithography?”，網址：https://comparewords.com/lithography/photolithography，最後瀏覽日2025年5月29日。 |
| Description: | 碩士
國立政治大學
科技管理與智慧財產研究所
112364207 |
| Source URI: | http://thesis.lib.nccu.edu.tw/record/#G0112364207 |
| Data Type: | thesis |
| Appears in Collections: | [科技管理與智慧財產研究所] 學位論文
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